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少量未處理的微粒或者氣體分子可能嚴重影響一些工藝流程。請想象一下污染的空氣對半導體、制藥和其它高度敏感的制造工藝流程可能產生什么樣的危害。

先進的生產方法通常要求非常潔凈的空氣環境，很多情況下，空氣要求還可能更加嚴格。例如，電子行業要求非常干凈的制造環境，以便生產大規模集成電路。由于電路板寬度可能只有1微米或者更少，這就要求將三維微粒污染控制在0.1微米以內。

潔凈室的重點就是過濾設備，但根據不同的潔凈室類型，需要考慮使用不同的空氣過濾設備。

憑借15年以上的微電子和半導體污染控制技術行業經驗以及對“國際半導體科技進程”的參與，我公司完全能夠提供好的解決方案，實現先進的微粒和AMC控制。

我公司在已通過ISO9000認證并嚴格控制生產環境的工廠內專門生產HEPA/ULPA過濾器。我們在全球多個生產基地同時生產同一類型的空氣過濾器和風淋室。大規模的生產能力確保我們的產品能夠隨時滿足世界各地的需求。

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